返回 CMS Membranes
Toray logo

资料摘要

CSM RE2521-BLN

基于 PDF 文本提取的 CSM RE2521-BLN 工程摘要。请以 OEM 数据表为准核实所有数值。

摘要

产品识别

这是一款低压等级的反渗透(RO)膜元件,专为苦咸水应用设计。

  • 产品名称: RE 2521-B LN / RE2521-BLN
  • 膜类型: 薄膜复合膜
  • 膜材料: 聚酰胺(PA)
  • 元件结构: 螺旋卷式,FRP 外包裹
  • 有效膜面积: 12 ft² (1.1 m²)

运行限制

  • 最大压降/元件:15 psi (0.1 MPa)
  • 最大压降/240 英寸膜壳:60 psi (0.41 MPa)
  • 最大运行压力:600 psi (4.14 MPa)
  • 最大进水流量:6 gpm (1.36 m³/hr)
  • 最小浓水流量:1 gpm (0.23 m³/hr)
  • 最高运行温度:113 °F (45 °C)
  • 运行 pH 范围:2.0–11.0
  • CIP 清洗 pH 范围:1.0–13.0
  • 最大浊度:1.0 NTU
  • 最大 SDI(15 分钟):5.0
  • 最大余氯浓度:< 0.1 mg/L

进水水质

不同水源的设计导则(通量单位:gfd)

  • 常规废水(SDI < 5):8–12 gfd
  • 经 UF/MF 预处理废水(SDI < 3):10–14 gfd
  • 海水,敞开式取水(SDI < 5):7–10 gfd
  • 海水,海滩井水(SDI < 3):8–12 gfd
  • 地表水(SDI < 5):12–16 gfd
  • 地表水(SDI < 3):13–17 gfd
  • 井水(SDI < 3):13–17 gfd
  • RO 产水(SDI < 1):21–30 gfd

饱和极限(使用阻垢剂时)

  • Langlier 饱和指数(LSI):<+1.5
  • Stiff 和 Davis 饱和指数(SDSI):<+0.5
  • CaSO₄:230% 饱和度
  • SrSO₄:800% 饱和度
  • BaSO₄:6,000% 饱和度
  • SiO₂:100% 饱和度

产水水质

  • 产水流量: 300 GPD (1.1 m³/day)
  • 稳定脱盐率: 99.2%
  • 最低脱盐率: 99.0%

上述产品性能基于在以下测试条件下运行 30 分钟后的数据:

  • 1,500 mg/L NaCl 溶液,施加压力 150 psig (1.0 MPa)
  • 回收率 15%
  • 77 °F (25 °C)
  • pH 6.5–7.0 每个元件的产水流量可能有所不同,但偏差不超过 15%。

机械/水力参数

  • 尺寸(RE 2521-BLN):
    • A:21.0 英寸 (534 mm)
    • B:2.5 英寸 (64 mm)
    • C:0.75 英寸 (19.1 mm)
    • D:1.1 英寸 (28 mm)
    • E:1.1 英寸 (28 mm)
  • 所有 RE2521 元件均适配标称内径为 2.5 英寸 (64 mm) 的压力容器。
  • 每个膜元件随附一个盐水密封圈、一个连接器(联轴器)和四个 O 型圈。
  • 零件编号:
    • RE 2521-BLN:40000305
    • 连接器:40000223
    • 盐水密封圈:40000223

常规操作指南

  • 元件必须在室温(7–32°C;40–95°F)下保持干燥,且不应存放在阳光直射处。
  • 如果聚乙烯包装袋破损,必须添加新的保护液(亚硫酸氢钠)并密封,以防止干燥和微生物滋生。
  • 系统运行第一个小时的产水应排放掉,以冲洗掉保护液。
  • 在储存、运输和系统停机期间,元件应浸没在保护液中,以防止微生物滋生和冻结。标准储存液含有 1%(重量比)的亚硫酸氢钠或焦亚硫酸钠(食品级)。
  • 对于短期储存(即一周或更短),1%(重量比)的焦亚硫酸钠溶液足以防止微生物滋生。
  • 初次润湿后,务必始终保持元件湿润。
  • 避免过高的压力和流量冲击。
  • 仅使用与膜元件及组件兼容的化学品。使用此类化学品可能导致元件有限保修失效。
  • 产水压力必须始终等于或低于进水/浓水压力。因产水背压造成的损坏将使元件有限保修失效。

免责声明: 本摘要基于提取的文本,可能不包含所有图表、脚注或最新修订版本。合同数据必须与项目中使用的 OEM PDF 修订版保持一致。

官方数据表(PDF)

PDF 数据表

本页根据公开技术资料整理,用于发现、理解和初步比较;不能替代制造商当前认证数据表。正式设计、采购或替换前,请核对版本、认证和设计边界。