UPHR1

摘要

产品标识

TRILITE® UPHR1 用于去除 TOC-UV 处理过程中产生的过氧化氢（H₂O₂）和阴离子。它应用于半导体超纯水工艺的后抛光阶段，以稳定并延长抛光系统的使用寿命。

物理和化学性质

• 基体：苯乙烯-二乙烯苯，凝胶型
• 官能团：
  • SAC：H⁺
  • SBA：OH⁻
• 离子形态：H⁺ / OH⁻
• 粒径（µm）：1.9
• 均一系数：1.1↓
• 离子转化率（%）：
  • H⁺：99.0 最小值
  • OH⁻：95.0 最小值
  • Cl⁻：1.0 最大值

操作极限

• 操作温度（°C）：60
• pH 范围：0~14
• 床层高度（mm）：600
• 运行流速（m/h）：5~60

进水条件

• 进水条件：超纯水，电阻率 > 18.2 ㏁·cm，TOC < 1 ppb，SV10

产水条件

• 出水条件：保证 18.2 ㏁·cm ↑（24 小时内）

应用

TRILITE® UPHR1 用于去除半导体超纯水工艺中 TOC-UV 处理产生的过氧化氢（H₂O₂）和阴离子。

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