WBMP OH

摘要

产品标识

• 产品名称： WBMP-OH
• 产品系列： ResinTech
• 类型： 弱碱阴离子
• 官能团： 二甲胺
• 离子形态： 氢氧根
• 聚合物基体： 苯乙烯系大孔
• 物理形态： 球形珠粒

典型特性与物理参数

• 粒径： 16 至 50 US 目（297 - 1190 μm）
• < 50 目（300µm）占比： < 1%
• 最低圆球率： 95%
• 均匀系数： 1.6
• 可逆溶胀（OH 转 HCl）： 10% 至 15%
• 温度极限： 250°F（121°C）
• 交换容量（meq/mL）： 1.3
• 含水率： 53% 至 60%
• 运输密度： 39 - 41 lbs/ft³（625 - 657 g/L）
• 颜色： 白色至棕褐色
• 可再生性： 是

包装选项

• 1 ft³ 袋装
• 1 ft³ 箱装
• 1 ft³ 桶装
• 7 ft³ 桶装
• 42 ft³ 吨袋

应用

• 滤芯应用
• 脱盐系统，常与强酸阳离子和强碱阴离子树脂配合使用。

建议运行条件

• 最高连续温度： 212°F
• 最小床层深度： 24 英寸
• 反洗膨胀率： 25% 至 50%
• 最大压降： 20 psi
• 运行 pH 范围： <9 SU

再生（氢氧根循环）

• 再生剂浓度： 1% 至 6% NaOH

• 再生剂用量： 3 至 6 lbs./cu.ft.

• 再生剂流速： 0.5 至 1.0 gpm/cu.ft.

• 再生剂接触时间： >30 分钟

• 置换流速： 与稀释水相同

• 置换体积： 10 至 15 加仑/cu.ft.

• 冲洗流速： 与运行流速相同

• 冲洗体积： 35 至 60 加仑/cu.ft.

• 运行流速： 1 至 4 gpm/cu.ft.

反洗膨胀数据

请参阅官方 PDF 以获取不同温度下膨胀率（百分比）与流速（gpm/sq.ft.）的精确表格数值。

压降数据

请参阅官方 PDF 以获取不同温度下压降（psi/ft. 树脂）与流速（gpm/sq.ft.）的精确表格数值。

有机物去除

ResinTech WBMP-OH 可去除有机酸阴离子，并使用氢氧化钠再生。它可用于减少脱盐应用中强碱阴离子树脂的有机污染。进水必须呈酸性，或树脂需预先转化为酸式硫酸盐或酸式氯化物形态。

脱盐应用

WBMP-OH 可用于强酸阳离子单元之后的两床系统，适用于无需完全去除二氧化硅和二氧化碳的场合。它也可置于强碱阴离子单元之前，用于去除强酸，将二氧化硅和二氧化碳留给强碱树脂处理。使用适度的苛性碱剂量即可有效再生。

免责声明：提取过程可能遗漏图表、脚注或修订信息；合同数据必须以项目中使用的 OEM PDF 版本为准。

官方数据表（PDF）

Lenntech 数据表镜像